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制備薄膜材料時,比較容易獲得非晶態結構

相對于體材料來講,在制備薄膜材料時,比較容易獲得非晶態結構。這是因為薄膜制備方法可以比較容易地造成非晶態結構的外界條件,即較高的過冷度和低的原子擴散能力,這兩個條件也正是提高相變過程的過冷度,抑制原子擴散,從而形成非晶態結構的條件。可以通過降低基片溫度、引入反應性氣體和摻雜方法實現上述條件。例如,對于硫化物和鹵化物薄膜在基片溫度低于77K時可形成無定形薄膜。有些氧化物薄膜,基片溫度在室溫時都有形成無定形薄膜的趨向。引入反應性氣體的實例是在10ˉ2 Pa- 10ˉ3 Pa氧分壓中蒸發鋁、稼、銦和錫等薄膜,由于氧化層阻擋了晶粒生長而形成無定形薄膜。在83%ZrO2一17%SiO2和67%ZrO2一33%MgO的摻雜薄膜中,由于兩種沉積原子尺寸的不同也可形成無定形薄膜。
 
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